Pierwsza maszyna High-NA EUV trafiła do amerykańskiego zakładu Intela

Informacja o tym, że Intel będzie pierwszym producentem układów wykorzystujących litografię High-NA EUV pojawiła się jeszcze w 2022 roku. Po prawie dwóch latach od ogłoszenia zakupu maszyn w holenderskiej firmie ASML fab w Oregonie otrzymał nowy sprzęt.

Maszyna TWINSCAN EXE:5200, bo o niej mowa, to system litograficzny pracujący z ekstremalnie krótkim promieniowaniem ultrafioletowym (EUV) o dużej aperturze numerycznej i wydajności ponad 200 wafli krzemowych na godzinę.

Wizja Intela i wczesne zobowiązanie się do wdrożenia technologii High-NA EUV ASML stanowią dowód nieustającego nadążania za Prawem Moore’a. W porównaniu z obecnymi systemami EUV nasza innowacyjna rozbudowana mapa drogowa EUV zapewnia ciągłe ulepszenia litografii przy zmniejszonej złożoności, kosztach, czasie cyklu i zużyciu energii, których potrzebuje przemysł układów scalonych, aby umożliwić przystępną skalowalność także w następnej dekadzie – powiedział Martin van den Brink, prezes i CTO ASML w czasie podpisywania umowy na zakup maszyn w styczniu 2022.

High-NA EUV to podstawa procesu Intel 18A

Platforma EXE stanowi ewolucyjny krok w technologii EUV i obejmuje nowatorski projekt optyki oraz znacznie szybsze nakładanie siatki. Systemy TWINSCAN EXE:5000 (takie maszyny zamówił Intel jeszcze w 2018 roku) i EXE:5200 oferują aperturę numeryczną 0,55 – to wzrost precyzji w porównaniu do poprzednich maszyn EUV z obiektywem o aperturze numerycznej 0,33 – umożliwiają wyższą rozdzielczość – apertura numeryczna systemu, w połączeniu z używaną długością fali, określa najmniejszy możliwy element w litografii.

Głównym celem Intela jest pozostanie jednym z liderów technologii litografii półprzewodnikowej, a przez ostatni rok budowaliśmy naszą wiedzę i zdolności w zakresie EUV. Współpracując blisko z ASML, wykorzystamy wysoką rozdzielczość High-NA EUV jako jeden ze sposobów kontynuacji Prawa Moore’a i utrzymania naszej silnej historii postępu aż do najmniejszych geometrii – powiedziała dr Ann Kelleher, wiceprezes wykonawczy i dyrektor generalny ds. Rozwoju Technologii w Intelu.

Chiny mają układy scalone w litografii 1 nm – tak twierdzi ich propaganda tworzona przez AI

Pierwsze układy scalone wyprodukowane w procesie Intel 18A zejdą z linii produkcyjnej jeszcze w I kw. 2024 roku.