Canon prezentuje maszyny do litografii 5 nm – mają być wielokrotnie tańsze niż te od ASML

Canon zamierza rzucić wyzwanie ASML za pomocą własnej maszyny litograficznej, która ma być o rząd wielkości tańsza, niż te produkowane przez holenderskiego giganta. Japońska firma jest już obecna na tym rynku, ale znana jest głównie z narzędzi używanych „dookoła” samego procesu litografii. Tym razem jest inaczej, bo propozycja Canona może odebrać kawałek tortu Holendrom.

Nowy sprzęt firmy Canon, nazwany FPA-1200NZ2C, wykorzystuje unikalne podejście do tworzenia układów półprzewodnikowych. W przeciwieństwie do technologii fotolitografii ASML, która wykorzystuje lasery do naświetlania projektu chipa na krzemowym waflu za pomocą maski, japońska maszyna wykorzystuje litografię nanoimprint (NIL — nanoimprint lithography), niejako „stemplując” projekt na waflu.

Kluczową zaletą technologii NIL jest niższy koszt produkcji samej maszyny, ponieważ nie wymaga ona zaawansowanej optyki ani laserów. Nie do pogardzenia jest też fakt, że zużycie prądu ma być zauważalnie mniejsze, a to nie tylko obniża koszty, ale i emisję CO₂. Canon twierdzi, że może w ten produkować tranzystory o rozmiarze odpowiadającym 5 nm, a za jakiś czas nawet 2 nm. ASML już dziś produkuje bardziej zaawansowany sprzęt, co nie znaczy, że na rynku nie ma miejsca na maszyny teoretycznie „starsze”.

Canon chce konkurować z ASML

Proces 5 nm uważany jest za zaawansowany technologicznie, ponieważ większość dziś produkowanych układów scalonych powstaje litograficznych 7 nm i więcej. Jeśli 2 nm, które Canon zapowiada, są możliwe do uzyskania, będzie to bezpośrednie bezpośrednia konkurencja dla ASML i litografii w ekstremalnym ultrafiolecie (EUV) i głębokim ultrafiolecie (DUV).

Jednym z głównych ograniczeń procesu NIL jest to, że „drukuje” on wzory sekwencyjnie, a nie równolegle, jak w przypadku fotolitografii. Zmniejsza to niestety jego przydatność w produkcji wielkoseryjnej, ponieważ mniejsze obszary muszą być stemplowane pojedynczo. Nie znaczy to jednak, że na te maszyny nie ma miejsca w branży. Idealnie nadają się one np. do produkcji masek dla litografii EUV i DUV.

Japonia przyłącza się do USA w ograniczeniach eksportu sprzętu do produkcji układów scalonych do Chin

Główną zaletą NIL jest jego niższa cena. Przykładowo, maszyna ASML dla podobnego procesu sprzedawana jest za około 150 milionów dolarów, podczas gdy urządzenie firmy Canon może być wycenione na zaledwie 15 milionów dolarów. Ta redukcja kosztów może otworzyć drzwi firmom o mniejszych budżetach do dostępu do zaawansowanej technologii – nie dotyczy to Chińskich producentów, bo ci objęci są sankcjami na tak zaawansowane maszyny.