BigBlue odkrywa potencjał litografii optycznej

21 lutego 2006 0 przez Piotr Bulski

IBM daje co najmniej siedem dodatkowych lat producentom układów. Firmie udało się udowodnić możliwość budowania nowocześniejszych chipów z wykorzystaniem powszechnych obecnie technologii. Specjaliści IBM podkreślili, że ich osiągnięcie pozwalać może na tworzenie układów w wymiarze trzykrotnie mniejszym od tego, który obecnie wykorzystywany jest na masową skalę (90 nm).
Nowa technologia prowadzić może do budowy chipów bardziej pojemnych i mniejszych, jednocześnie odsuwając w czasie konieczność wprowadzenia nowych technologii wytwarzania układów scalonych. IBM twierdzi, że nowa technologia produkcji może rozszerzyć okres w którym obowiązywać będzie tzw. prawo Moore’a dotyczące podwajania się liczby tranzystorów w chipach komputerowych co dwa lata.

Przedstawiciele firmy wspominają o celu jakim jest korzystanie z litografii optycznej (deep-ultraviolet optical lithography) do granic możliwości oferowanych przez to rozwiązanie, zanim konieczne okaże się skorzystanie z kosztownych technologii alternatywnych, umożliwiających dalszą miniaturyzację.

Poniżej fotografia prezentująca dzieło specjalistów z ośrodka IBM Almaden Research Center w San Jose – ścieżki wykonane w technologii 29,9 nm (z lewej strony) i 90 nm (z prawej strony).